Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas (1994)
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
VERDONCK, Patrick Bernard et al. Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 12 maio 2024.APA
Verdonck, P. B., Swart, J. W., Mansano, R. D., & Ordonez, N. (1994). Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.NLM
Verdonck PB, Swart JW, Mansano RD, Ordonez N. Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas. Anais. 1994 ;[citado 2024 maio 12 ]Vancouver
Verdonck PB, Swart JW, Mansano RD, Ordonez N. Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas. Anais. 1994 ;[citado 2024 maio 12 ]